中微公司CCP電容式刻蝕機已達到國際最先進技術水平7nm/5nm，在存儲器中64層3D NAND已經實現量產，128層3D NAND穩步推進引領國內大規模進口替代，ICP電感式突破至1Xnm，未來有望導入產線加大應用；同時，公司開啟平臺化發展，參股沈陽拓荊（國內PECVD、ALD龍頭）、Solayer（鍍膜設備）并擬參股上海睿勵（國內厚膜量測設備領先者），擴大業務領域，滿足國內對薄膜設備、量測設備的等巨大需求，順勢做大做強。
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